Deep X-ray lithography at ELETTRA using a central beam-stop to improve structure adhesion on the substrate / Perennes, F; Vesselli, Erik; Pantenburg, F. J.. - In: MICROSYSTEM TECHNOLOGIES. - ISSN 0946-7076. - 8:(2002), p. 330. [10.1007/S00542-001-0161-7]
Deep X-ray lithography at ELETTRA using a central beam-stop to improve structure adhesion on the substrate
VESSELLI, ERIK;
2002-01-01
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