Metal/III-V Diodes Engineered by means of Si Interlayers: Interface Reactions versus Local Interface Dipoles / Bonanni, B., Orani, D., Lazzarino, M., Rubini, S., Franciosi, A.. - In: APPLIED PHYSICS LETTERS. - ISSN 0003-6951. - 79:(2001), pp. 1462-1464.
Metal/III-V Diodes Engineered by means of Si Interlayers: Interface Reactions versus Local Interface Dipoles
FRANCIOSI, ALFONSO
2001-01-01
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