Interfacial RhOx / CeO2 Sites as Locations for Low Temperature N2O Dissociation / J., C., Hickey, J.N., R., C., J. C., C., J., S., A., M.A.. - 101:(1996), pp. 681-690. [10.1016/S0167-2991(96)80279-5]
Interfacial RhOx / CeO2 Sites as Locations for Low Temperature N2O Dissociation
HICKEY, JAMES NEIL;
1996-01-01
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